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  • 日本大冢分光配光測量系統GP-4000 日本大冢分光配光測量系統GP-4000 日本大冢分光配光測量系統GP-4000
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  • 日本大冢高速LED光學特性儀 LE-SERIES-LE-5400 日本大冢高速LED光學特性儀 LE-SERIES-LE-5400 日本大冢高速LED光學特性儀 LE-SERIES-LE-5400
  • 日本大冢全光束測量系統 HM-SERIES 日本大冢全光束測量系統 HM-SERIES 日本大冢全光束測量系統 HM-SERIES
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  • 日本大冢高速近場配光測量系統RH50 日本大冢高速近場配光測量系統RH50 日本大冢高速近場配光測量系統RH50
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  • 日本大冢高速近場配光測量系統RH600 日本大冢高速近場配光測量系統RH600 日本大冢高速近場配光測量系統RH600
  • 日本大冢高速近場配光測量系統RH300 日本大冢高速近場配光測量系統RH300 日本大冢高速近場配光測量系統RH300
  • 日本大冢量子效率測量系統QE-2100 日本大冢量子效率測量系統QE-2100 日本大冢量子效率測量系統QE-2100
  • 日本大冢量子效率測量系統QE-2000 日本大冢量子效率測量系統QE-2000 日本大冢量子效率測量系統QE-2000
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  • 界達電位OTSUKA大冢量子點評系統界達電位OTSUKA大冢量子點評系統 激光粒徑分析儀 激光粒度儀 激光粒徑儀 激光散射粒度分布儀 固體表面zeta電位 固體zeta電位 優良分子量測量 分子直徑測量 分子量測量 粒度儀 粒徑儀 粒度分析儀 粒度測定儀 zeta電位儀 zeta電位測試 zeta電位測量儀 zeta電位測試儀 納米粒徑分析儀 zeta電位測定儀 nanoSAQL 納米粒度儀 ze
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  • OTSUKA大冢-量子點評系統 量子點材料具有根據粒子直徑不同發光波長發生變化的特性。 在本系統中，在評價粒子直徑以及分散穩定性的同時，也可以對熒光特性進行評價。 OTSUKA大冢-量子點評系統OTSUKA大冢-量子點評系統OTSUKA大冢-量子點評系統
  • 日本大冢低相位差高速檢查設備RE-200 日本大冢低相位差高速檢查設備RE-200 日本大冢低相位差高速檢查設備RE-200
  • OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series
  • 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100
  • 支持從反射/透射型 LCD 填充單元到帶濾色器的空單元的各種單元
  • 非常適合FPD生產過程中的所有檢測，如濾色片光學特性檢測和玻璃基板膜厚檢測。
  • “一步操作”是一種追求用戶友好性的設備，無需任何繁重的工作，設置樣品即可立即看到結果。 該設備旨在縮短檢測過程，無需校準曲線即可高精度、高分辨率地輕松找到優良厚度。 由于使用了大冢電子開創的光學方法，因此可以在不接觸的情況下高精度測量不透明、粗糙表面和容易變形的樣品，同時節省空間。
  • 它以非接觸方式測量晶片等的研磨和拋光過程，具有超高速、實時和高精度的晶片和樹脂。
  • 除了可實現高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外，我們還通過實施自動可變測量機制支持所有類型的薄膜。除了傳統的旋轉光子檢測器方法外，還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機制來提高測量精度。
  • 實現具有波長依賴性的高精度多層膜測量
  • 它是一種緊湊、低成本的薄膜厚度計，它通過簡單的操作實現了高精度光學干涉測量的薄膜厚度測量。 我們采用一體式外殼，將必要的設備安裝在主體中，實現了穩定的數據采集。 通過以低廉的價格獲得**反射率，可以分析光學常數。
  • 它是一種通過使用顯微光譜測量微小區域內的優良反射率，實現高精度膜厚和光學常數分析的設備。 可以以非破壞性和非接觸的方式測量各種薄膜、晶片、光學材料和多層薄膜等鍍膜的厚度。可進行1秒/點測量時間的高速測量。它還配備了軟件，即使是初學者也可以輕松分析光學常數。
  • 能夠從低亮度到高亮度進行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計。 大冢電子獨特的光譜光學設計和信號處理電路采用電子冷卻線陣傳感器，實現了在寬亮度范圍和波長范圍內的低噪聲和高精度測量。
  • 支持紫外到近紅外區域的多功能多通道光譜檢測器。光譜光譜可以在*少 5 ms 內測量。標準光纖可以在不指定樣品類型的情況下支持各種測量系統。除了顯微光譜、光源發射、透射/反射測量外，還可以通過結合軟件支持物體顏色評估、膜厚測量等。
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